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公司聚焦(jiao)于半导体薄膜(mo)沉积(ji)设备的(de)研(yan)发和生产，主(zhu)要产品包括(kuo)等(deng)离(li)子体增强(qiang)化学气相沉(chen)积(ji)(pecvd)设备、原子层沉积(ald)设备(bei)和次常压(ya)化学气相沉(chen)积(sacvd)设备三个产品系列(lie)，广泛应用(yong)于国内(nei)晶(jing)圆(yuan)厂14nm及以上制(zhi)程(cheng)集(ji)成电(dian)路(lu)制造(zao)产线(xian)，并(bing)已展开10nm及(ji)以下制(zhi)程产品(pin)验证测试。公开披(pi)露信息显示，公司(si)下(xia)游客(ke)户包含中芯国际、华虹集团、长江(jiang)存(cun)储、长鑫(xin)存储、厦门联芯(xin)、燕东微(wei)电(dian)子等(deng)国内主(zhu)流(liu)晶圆(yuan)厂商。

作为高(gao)新技术企业，拓荆科技立足于(yu)自主创新，持续研发投入，在半(ban)导体薄膜沉积设备(bei)领(ling)域，拓积累了多(duo)项(xiang)研(yan)发及产(chan)业化的核(he)心技术。数据(ju)显示，截至(zhi)2022年3月8日(ri)，公司(si)累(lei)计获取授权(quan)专利174项，其中发明专利共计98项。

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